장비상세보기
문의번호 ( KIST 전북분원 )
- 예약문의 063-219-8145
- 장비문의 063-219-8145
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장비활용중개소
(ZEUS) 1670-0925 ※ 운영시간 (09:00~18:00)
이용 요금
- 이용요금
- 이용료 안내
- 이용방법
- 제작사명 FEI
- 모델명 Nova Nano SEM 450
- 구축일자 2013-02-26
- 사용용도 none
- 탄소공정 시험/평가
- 5대수요산업 모빌리티 ,에너지환경 ,라이프케어 ,방산·우주·항공 ,건설
- 6대 탄소소재
- 설치장소 한국과학기술연구원 전북분원 연구동
사용/활용예
- 사용/활용예 복합소재의 표면관찰. 나노복합소재 소자의 표면관찰. 비전도성 물질의 이미징을 위해 저진공 모드 가능. 비전도성 물질의 이미징을 위해 저전압 (200V) 가능. 빔묘화공정에도 이용 가능.
- 장비설명 전자총에서 발생시킨 전자빔을 집속시켜 시료에 주사하여 방출되는 전자를 검출함으로써 시료의 표면 구조를 관측하는 전자현미경임. 전계 방출형의 전자총을 이용하여 일반 광학 현미경으로는 관측이 불가능한 물질의 미세영역을 고분해 고배율로 확대하여 표면구조 및 형태를 확인하는 용도임. 전자빔을 방출 집속하는 전자 광학계와 신호 및 정보 검출을 위한 각종 검출장치로 이루어져 있음. * Electron beam resolutionHigh vacuum imaging- 1 nm at 15 kV (SE)- 1.4 nm at 1 kV (SE)- 3.5 nm at 100 V (DBS)Low vacuum imaging- 1.4 nm at 10 kV (Helix)- 1.8 nm at 3 kV (Helix)* Probe current: 0.6 pA - 200 nA* Beam landing energy: 50 eV - 30 keV
- 구성 및 성능 Source Ultra-high brightness Schottky field emitterVoltage High voltage 200 V to 30 kV continuously adjustable or better Landing energy 50 V to 30 kV continuously adjustable or betterBeam Current Up to 200 nA or betterResolution High-vacuum : 1.0 nm @ 15 kV(SE) 1.4 nm @ 1 kV(SE) 3.5 nm @ 100 V(BSE) or better Low-vacuum : 1.5 nm @ 10 kV(SE) 1.8 nm @ 3 kV(SE) with optional Helix detector or betterFocus Range Mode I (magnetic lens): 1 mm to 60 mm or better Mode II (immersion lens): 1 mm to 7 mm (1 kV) or better
