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주사전자현미경

Field Emission Scanning Electron Microscope

  • 시설장비활용번호 : Z-202107093854
  • 시설장비등록번호 : NFEC-2018-06-244260
  • 활용범위 : 공동활용서비스
  • 활용대상 : 기관외부활용
  • 예약방법 : 실시간예약
  • 관심장비등록 카달로그 메뉴얼
문의번호 ( 한국생산기술연구원 )
  • 예약문의
  • 장비문의
  • 장비활용중개소
    (ZEUS)
    1670-0925 ※ 운영시간 (09:00~18:00)
이용 요금
  • 이용요금 60,000원/건
  • 이용료 안내 60,000원/건
  • 이용방법 상담 후 예약
  • 제작사명 Hitachi
  • 모델명 SU5000
  • 구축일자 2018-06-20
  • 사용용도 분석
  • 탄소공정 시험/평가
  • 5대수요산업 모빌리티 ,에너지환경 ,라이프케어 ,방산·우주·항공 ,건설
  • 6대 탄소소재 탄소섬유 ,활성탄소 ,인조흑연 ,카본블랙,탄소나노튜브,그래핀
  • 설치장소 원주뿌리기술지원센터
사용/활용예
  • 사용/활용예 주사전자현미경에서는 주로 시료 표면의 정보를 얻을 수 있고 시료의 두께, 크기 및 준비에 크게 제한을 받지 않는다. 주사전자현미경은 광학현미경에 비해 집점심도가 2배 이상 깊고, 또한 광범위하게 집점을 맞출 수 있어 입체적인 상을 얻는 것이 가능하다.
  • 장비설명 주사전자현미경은 전자선이 시료면 위를 주사(scanning)할 때 시료에서 발생되는 여러 가지 신호 중 그 발생확률이 가장 많은 이차전자(secondary electron) 또는 반사전자(back scattered electron)를 검출하는 것으로 대상 시료를 관찰한다.
  • 구성 및 성능 1. Resolution SE resolution: 1.2nm or less @ 30kV 3.0nm or less @ 1kV 2. Magnification: 18 – 1,000,000X or more (Based on 800x600 pixel monitor display) 3. System Operation: Microsoft® Windows XP or more Standard Mouse, Knob-set and Keyboard Operation 4. Electron optics 1) Electron gun: ZrO/W Schottky emission electron gun 2) Accelerating Voltage: 0.5 – 30kV or more (should be adjustable in 100V steps) 3) Landing voltage: 0.1k – 2kV or more (should be adjustable in 100V steps) 4) Beam current: 200nA maximum or more 5) Lens System : Three-stage electromagnetic lens reduction system 6) Astigmatism: Electromagnetic 8-pole X,Y method correcting unit 7) Scanning coil: Two-stage electromagnetic deflection method 8) Objective Lens Aperture: Click stop, strip aperture with five positions or more (open, 150μm, 70μm, 30μm, and 20μm) * Aperture Heater should be Standard. * Position Sensor should be Standard. 9) Beam blanking: Electromagnetic type(beam is blanked when image is frozen) 10) SE Bias Accelerator Plate: Improves SE collection efficiency at low voltages and short working distances 11) Objective Lens: Super conical lens 12) Image Shift: ± 50um or better at 15mm WD 5. Electron optics alignment Alignment mode: Beam alignment mode Aperture alignment mode Stigma alignment mode Ultra low voltage alignment mode Auto focus alignment mode Automated optical axis alignment and astigmatism correction mode 6. Detectors: Everhart-Thornley secondary electron detector (Standard) Top detector for high resolution imaging through-the-Lens(TTL) or equivalent. 7. Vacuum System 1) Automatic evacuation: Fully automatic vacuum sequence with pneumatic valves Failsafe protection against loss of power, air pressure and vacuum User friendly and accurate computer control of vacuum levels 2) Vacuum pumps: Two ion-pumps (30 l/s x1, and 20l/s x1) or more Turbo molecular pump (240 l/s) x1 or more