장비상세보기
문의번호 ( 경북하이브리드부품연구원 )
- 예약문의 053-850-7702
- 장비문의 053-850-7702
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장비활용중개소
(ZEUS) 1670-0925 ※ 운영시간 (09:00~18:00)
이용 요금
- 이용요금 코팅, 전처리 추가 이용료 발생
- 이용료 안내 코팅, 전처리 추가 이용료 발생
- 이용방법 장비담당자 : 서창택 선임연구원, 053-850-7702
- 제작사명 Jeol
- 모델명 JSM-7900F
- 구축일자 2021-01-11
- 사용용도 분석
- 탄소공정 시험/평가
- 5대수요산업 모빌리티 ,에너지환경 ,라이프케어 ,방산·우주·항공 ,건설
- 6대 탄소소재 탄소섬유 ,활성탄소 ,인조흑연 ,카본블랙,탄소나노튜브,그래핀
- 설치장소 (재)경북하이브리드부품연구원연구동
사용/활용예
- 사용/활용예
- 장비설명 탄소 소재 미세구조분석 시스템은 일반 광학현미경으로는 관찰이 어려운 탄소 소재의 기공, 함침 적정성을 관찰할 수 있는 복합소재 미세영역을 고분해, 고배율(최저 25배에서 최고 100만배까지)로 확대하여 표면, 단면 구조 및 형태를 확인 가능한 기초 분석 장비
- 구성 및 성능 장비의 구성(Configurations of Goods) 1. 주장비 1) FE-SEM main body 1 set 2) 5 Axis Motor Drive stage 1 set 3) Specimen Exchange Chamber 1 set 4) Personal Computer with 24inch LCD monitor 1 set 5) UPS for FE-Gun 1 set 6) In column Electron detector system with ACL 1 set 7) Super high resolution bias deceleration system 1 set 8) Auto beam alignment software 1 set 9) Retractable BSE detector 1 set 10) Color image Stage Navigation System 1 set 11) IR Chamber Camera 1 set 12) Embedded type anti-vibration isolation system 1 set 13) 5.2cm bulk holder 1 set 14) Cross section multi specimen holder 1 set 15) Operation Table 1 set 16) Energy Dispersive X-ray Spectrometer 1 set 17) Low damage Cross section system 1 set 18) Automatic magnetron sputter coater 1 set -. Target : Pt & Au 19) Automatic carbon coater system 1 set 20) Consumable parts -. Aperture 2 ea -. Vacuum Grease 1 ea -. Specimen mount, 12.5Dx5H, 3 ca -. Specimen mount, 25.4Dx5H, 3 ca -. Adhesive Tape(carbon), 20M 3 ca 2. 보조장비 1) Cooling Water Circulator for FE-SEM 1 set 2) A.V.R for FE-SEM 1 set 성능 및 규격(Performance and Specification) 1. Performance 1) Image Resolution : 0.7nm guaranteed at 15kV or less 0.8nm guaranteed at 1kV or less 1.0nm guaranteed at 0.5kV or less 2) Magnification : x25 to x1,000,000 on photo mag. or more 3) Image types : Secondary electron image Backscattered electron image SE and BSE mixed image (with filtering system) 4) Accelerating Voltage : 0.02 to 30kV or more 5) Probe current : A few pA to 400nA or more 2. Electron Optical System 1) Lens control method : New electron optical control mechanism. Synchronized system which control the electron gun and optical system. 2) Electron Gun : In lens Field Emission-Gun 3) Lens System : -. Observation mode : SEM, LDF GBSH or more -. Condenser lens (C.L) : Electromagnetic 2-stage lens -.
